Prototype Alat Metal Evaporator Physical Vapour Deposition (PVD) untuk Menghasilkan Lapisan Film Tipis Aluminium (Al) pada Substrat Kaca

Lapisan film tipis banyak digunakan untuk berbagai hal seperti meningkatkan kinerja benda dengan memberikan sifat-sifat baru pada permukaanya. Salah satu material yang bisa digunakan sebagai material pelapis adalah aluminium. Politeknik Manufaktur Bandung bekerjasama dengan Insistut Teknologi Bandung berencana mengembangkan prototype alat metal evaporator melalui tugas akhir ini. Salah satu faktor yang penting dari kualitas lapisan film tipis logam yang baik adalah kinerja alat metal evaporator itu sendiri, termasuk kemampuan alat dalam menghasilkan uap logam dari aluminium pada substrat kaca. Untuk mengetahui keberhasian proses pengendapan atau deposisi material pelapis pada material substrat maka diperlukan pengujian pada alat metal evaporator yang akan dibuat yang kemudian akan di karakterisasi morfologi menggunakan scanned electron microscope. Ukuran grain lapisan film tipis aluminium yang terbentuk masih berukuran mikro dan beragam mulai dari 7,44 hingga 24,8 μm sehingga kekuatan lapisan film tipis yang terbentuk kurang baik. Analisis komposisi menggunakan Energy Dispersive Spectroscopy (EDS) menyoroti variasi dalam komposisi unsurunsur dalam lapisan film tipis aluminium pada ketiga substrat kaca. Perbandingan antara berbagai area pengukuran pada berbagai sampel mengindikasikan variasi yang signifikan dalam persentase berat oksigen, aluminium, dan tungsten. Hasil lapisan film tipis juga belum konsisten walaupun menggunakan parameter pengujian yang sama, hal ini diakibatkan oleh sistem pemanas yang hanya mampu memanaskan dengan range suhu sebesar 50-340°C pada kondisi tidak vakum.