Prototype Alat Metal Evaporator Berbasis Physical Vapor Deposition (PVD) untuk Deposisi Lapisan Tipis Aluminium pada Substrat Kaca

Lapisan tipis banyak diaplikasikan untuk meningkatkan kinerja suatu material dengan memberikan sifat-sifat baru pada permukaannya, salah satunya menggunakan material aluminium. Penelitian ini bertujuan untuk mengembangkan prototipe alat metal evaporator berbasis Physical Vapor Deposition (PVD) melalui kolaborasi antara Politeknik Manufaktur Bandung dan Institut Teknologi Bandung. Fokus utama penelitian adalah menguji kinerja alat dalam menghasilkan uap logam aluminium untuk dideposisikan pada substrat kaca. Keberhasilan proses deposisi dievaluasi melalui pengujian performa alat serta karakterisasi morfologi lapisan menggunakan Scanning Electron Microscope (SEM) dan Energy Dispersive Spectroscopy (EDS). Hasil pengujian menunjukkan bahwa ukuran grain lapisan tipis aluminium yang terbentuk masih berada pada skala mikro dengan variasi ukuran berkisar antara 7,44 hingga 24,8 $\mu$m, yang menyebabkan kekuatan mekanik lapisan kurang optimal. Analisis komposisi dengan EDS menunjukkan adanya variasi signifikan pada persentase berat unsur oksigen, aluminium, dan tungsten di berbagai area sampel. Selain itu, karakteristik lapisan tipis yang dihasilkan belum konsisten meskipun menggunakan parameter pengujian yang sama. Hal ini diidentifikasi sebagai akibat dari keterbatasan sistem pemanas yang hanya mampu mencapai rentang suhu 50–340°C pada kondisi tidak vakum.